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高纯度异丙醇及其制造方法与流程

2022-09-02 14:05:36

背景技术:

异丙醇(也称为2-丙醇)是被使用在各种用途中的有机溶剂,其通过水合法等来制造,所述水合法是使丙烯进行水合反应来制造。

通常,异丙醇是由能够供给作为原料的丙烯的石化厂(petrochemicalcomplex)制造,在制造后被运输至需求地为止并保存在储藏罐中。像这样,异丙醇大多在制造后直至使用之前保存较长时间。因此,长时间保存时异丙醇中的杂质增加成为严重的问题。

尤其,若将因长期保存而杂质增加了的异丙醇使用于半导体设备等电子设备的清洗用途,则有时在清洗及干燥后来自异丙醇中的杂质的残渣会残留于电子设备的表面。

例如在专利文献1中记载了下述内容:溶解于异丙醇中的有机杂质随着异丙醇的蒸发而凝集,变成较大的颗粒,该颗粒残留于被处理体而生成粒子状污染(粒子状缺陷)。

这样,清洗及干燥后的残渣成为电子设备产生缺陷的主要原因,因此期望作为清洗液使用的异丙醇中的有机杂质的浓度、尤其是会成为处理后的残渣的沸点比异丙醇高的有机杂质的浓度尽可能地降低。另外,期望如下的异丙醇:即使长期保存异丙醇,会成为清洗及干燥后的残渣的原因的有机杂质也不会增加。

关于异丙醇的保存中的杂质增加,例如在专利文献2中记载了下述内容:通过使针对因异丙醇的氧化反应而产生的过氧自由基而言的电子供体存在于异丙醇中,从而能够高度地抑制氧化劣化的进行,能够显著地降低在异丙醇的保存中生成的酮。

另外,在专利文献3中记载了通过对异丙醇进行蒸馏来除去较异丙醇而言更高沸点的杂质。另外,在专利文献3中还记载了与高沸点杂质的除去加以组合而通过蒸馏来除去较异丙醇而言更低沸点的有机杂质。另外,在专利文献3中暗示了这些异丙醇中的杂质会在半导体制造作业中残留于晶圆而成为缺陷的原因。

异丙醇

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